
삼성전자는 지난 1월 3D DRAM 시장 선점을 위해 차세대 메모리 연구개발(R&D) 조직인 'R&D-Dram Path Finding'을 신설했다. 이 조직은 송재혁 삼성전자 DS 부문 CTO 겸 반도체연구소장이 직접 이끌며, 3D DRAM 기술 개발에 집중하고 있다.
삼성은 3D DRAM 개발에 수직 채널 트랜지스터(Vertical Channel Transistors)와 적층형 DRAM(Stacked DRAM)이라는 두 가지 혁신적인 기술을 도입할 계획이다. 수직 채널 트랜지스터는 기존 수평 방식의 트랜지스터보다 더 높은 전류 구동 능력과 더 빠른 스위칭 속도를 제공하여 성능을 크게 향상시킬 수 있다. 적층형 DRAM은 여러 칩을 쌓아 더 높은 메모리 용량을 제공하며, 칩 면적을 줄여 공간 효율성을 높일 수 있다.
삼성은 적층형 DRAM 개념을 활용하여 향후 칩 용량을 잠재적으로 100GB까지 늘릴 계획이다. 이는 현재 최고 수준인 32GB 칩 용량 대비 3배 이상 높은 수치다. 3D DRAM 기술은 스마트폰, 인공지능, 서버 등 다양한 분야에서 고용량 메모리가 필요한 곳에 활용될 수 있다.
삼성전자의 3D DRAM 기술 개발은 단순한 기술 혁신을 넘어 메모리 시장 지각변동을 가져올 수 있는 중요한 전략적 행보로 해석된다. 삼성은 3D DRAM 기술을 통해 경쟁사 대비 우위를 확보하고, 미래 메모리 시장에서 선두 자리를 유지할 수 있을 것으로 기대된다.
삼성전자는 지난해 10월 실리콘밸리에서 '메모리 테크 데이'를 열고 10나노미터(nm·1nm=10억분의 1m) 이하 D램에 3D 수직 신구조를 가장 먼저 도입하겠다고 밝힌 바 있다.
시장조사기관 트렌드포스에 따르면, 3D DRAM 시장은 2028년까지 1,000억 달러(약 135조1900억원 규모로 성장할 것으로 예상된다. 삼성전자는 3D DRAM 기술 개발에 앞장서면서 미래 메모리 시장을 주도할 것으로 전망된다.
홍정화 글로벌이코노믹 기자 noja@g-enews.com