미쓰비시화학그룹이 12일(현지시간) 후쿠오카현 기타큐슈시에 반도체 소재 신공장을 건설한다고 발표했다. 회로 형성에 사용되는 포토레지스트(감광재)용 수지를 생산하며, 기존 거점과 함께 생산 능력을 2배 이상 늘리고 최첨단 반도체용 소재도 처음으로 양산할 예정이다. 2025년 가을 가동을 목표로, 반도체 미세화에 따른 수요 증가에 대비한다.
신공장에서는 반도체 회로 형성 공정에 사용되는 레지스트의 주성분인 수지 '리소맥스'를 생산한다. 미세 회로 형성에 사용되는 ArF(불화아르곤) 레지스트용은 2025년 10월부터, 최첨단 극자외선(EUV) 레지스트용은 같은 해 9월부터 생산할 계획이다. 투자 금액은 수십억 엔 규모로 예상된다.
미쓰비시화학은 기존에 요코하마시 사업소에서 생산해왔으나, 규슈 사업장(기타큐슈시)의 빈 건물을 활용하여 투자 비용을 절감하면서 신규 설비를 도입한다. 특히 EUV 레지스트용은 실증 플랜트에서 샘플 출하만 해왔지만, 이번 신공장 건설을 통해 본격적인 양산에 돌입한다.
미쓰비시화학의 주요 판매처인 JSR과 도쿄응화공업 등 일본 업체들은 감광제 시장에서 세계 점유율 90%를 차지하고 있어, 이번 신공장 건설은 일본 반도체 소재 산업의 경쟁력 강화에도 기여할 것으로 전망된다.
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